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  • 熔噴料測試儀熔體流動速率儀熔指體積法
    熔噴料測試儀熔體流動速率儀熔指體積法

    更新時間:2023-12-06

    型號:

    瀏覽量:1627

    熔體流動速率儀熔指體積法用于測定各種塑膠、樹脂在粘流狀態(tài)時熔體流動速率MFR值,它既適用于熔融溫度較高的聚碳酸酯、聚芳砜、尼龍等工程塑料,也適用于聚乙烯(PE)、聚苯乙烯(PS)、聚丙烯(PP)、ABS樹脂、聚甲醛(POM)、聚碳酸酯(PC)樹脂等熔融溫度較低的塑料測試,廣泛地應(yīng)用于塑料生產(chǎn),塑料制品、石油化工等行業(yè)以及相關(guān)院校、科研單位和商檢部門。熔噴料測試儀熔體流動速率儀熔指體積法
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  • KZ-UV-2000紫外線N95口罩消毒滅菌機
    KZ-UV-2000紫外線N95口罩消毒滅菌機

    更新時間:2023-12-06

    型號:KZ-UV-2000

    瀏覽量:1243

    紫外線N95口罩消毒滅菌機工作原理是:紫外線殺菌波段主要介于200~300nm之間,其中以253.7nm波長的殺菌能力 。它起到一種光化作用,紫外光子的能量被DNA中的堿基對吸收,引起遺傳物質(zhì)發(fā)生變異,使細(xì)菌當(dāng)即死亡或不能繁殖后代,達(dá)到殺菌的目的。
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  • KZ-UV-4000口罩消毒滅菌機產(chǎn)線設(shè)備
    KZ-UV-4000口罩消毒滅菌機產(chǎn)線設(shè)備

    更新時間:2023-12-06

    型號:KZ-UV-4000

    瀏覽量:1196

    口罩消毒滅菌機產(chǎn)線設(shè)備工作原理是:紫外線殺菌波段主要介于200~300nm之間,其中以253.7nm波長的殺菌能力 。它具有高效殺菌廣譜性、無二次污染,設(shè)計安全合理,運行安全、可靠。運行維護簡單,費用低。本設(shè)備占地小,無噪音。連續(xù)大量殺菌。應(yīng)用領(lǐng)域廣等等很多優(yōu)勢。
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  • KZ-UV-2000深圳紫外線口罩滅菌機
    KZ-UV-2000深圳紫外線口罩滅菌機

    更新時間:2023-12-06

    型號:KZ-UV-2000

    瀏覽量:1163

    深圳紫外線口罩滅菌機的工作原理是:紫外線殺菌波段主要介于200~300nm之間,其中以253.7nm波長的殺菌能力 。
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  • KZ-UV-4000四米長高效率紫外線口罩殺菌消毒爐
    KZ-UV-4000四米長高效率紫外線口罩殺菌消毒爐

    更新時間:2023-12-06

    型號:KZ-UV-4000

    瀏覽量:1388

    四米長高效率紫外線口罩殺菌消毒爐廣泛應(yīng)用在醫(yī)院,食品,中草藥,食品飲料加工及包裝設(shè)備,保健品廠,醫(yī)療產(chǎn)品,食品廠,化妝品廠,奶品廠,釀酒廠,飲料廠,面包房和包裝制品廠等。設(shè)備的工作原理是:紫外線殺菌波段主要介于200~300nm之間,其中以253.7nm波長的殺菌能力 。
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  • KZ-UV-2000紫外線口罩殺菌機
    KZ-UV-2000紫外線口罩殺菌機

    更新時間:2023-12-06

    型號:KZ-UV-2000

    瀏覽量:1673

    紫外線口罩殺菌機廣泛應(yīng)用在醫(yī)院,食品,中草藥,食品飲料加工及包裝設(shè)備,保健品廠,醫(yī)療產(chǎn)品,食品廠,化妝品廠,奶品廠,釀酒廠,飲料廠,面包房和包裝制品廠等。設(shè)備的工作原理是:紫外線殺菌波段主要介于200~300nm之間,其中以253.7nm波長的殺菌能力 。
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  • KZ-LXT-160快速精準(zhǔn)水份測定儀
    KZ-LXT-160快速精準(zhǔn)水份測定儀

    更新時間:2023-12-06

    型號:KZ-LXT-160

    瀏覽量:1719

    快速精準(zhǔn)水份測定儀廣泛用于原材料、粉體、顆粒、半成品、成品等材料的水份及固含量快速檢測,水份測定儀針對化工原料、環(huán)保電子、無機粉體、塑料顆粒、高分子材料、電池原料、電池極片、電磁材料、金屬粉末、紡織纖維等樣品都能準(zhǔn)確的提供水份檢測方案。
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  • DJH-D電鍍層電解測厚儀
    DJH-D電鍍層電解測厚儀

    更新時間:2023-12-06

    型號:DJH-D

    瀏覽量:1253

    DJH-D電鍍層電解測厚儀測量原理:利用法拉第原理設(shè)計,其過程類似于電鍍,但電化學(xué)反應(yīng)的方向相反,是電解除鍍。庫侖法測厚是對被測部分的金屬鍍層進(jìn)行局部陽極溶解,通過陽極溶解鍍層達(dá)到基體時的電位變化及所需時間來進(jìn)行鍍層厚度的測量。
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